對(duì)于獨(dú)立圖案的全息燙印箔而言，無論全息圖案在燙印箔上的位置多么精確，燙印中誤差仍會(huì)被逐步積累。即便我們能將燙印箔上全息圖案之間距離的誤差縮小到百分之―毫米，在燙印1000個(gè)圖案后，仍會(huì)出現(xiàn)的誤差。為消除燙印過程對(duì)燙印精度誤差的逐步積累，因此，獨(dú)立圖案全息燙印箔需要用定位光標(biāo)及時(shí)修正全息圖案在間距上的誤差。
每一個(gè)燙印箔上的全息圖案都需要有一個(gè)與之相匹配的光標(biāo)，圖案與其光標(biāo)的相對(duì)位置必須恒定。光標(biāo)必須是方的，其邊長最小為3mm，其中心線最好與全息圖案的中心線一致，與全息圖案之間的距離至少為3mm。為保證光標(biāo)的準(zhǔn)確性，光標(biāo)的邊緣應(yīng)該很直，光學(xué)特性敏銳且一致，目前用于定位系統(tǒng)的技術(shù)有基本細(xì)、與燙印版同位型和智能型三種?；舅芏ㄎ幌到y(tǒng)，是定位燙印技術(shù)中最簡單的一種。
探測(cè)器距離燙印版冇一定距離，識(shí)別的圖案不是正在燙印的圖案。因而這種定位技術(shù)必須要求所有的全息圖之間的間距完全相符，否則，任何誤差都會(huì)反映為定位燙印上的誤差。與燙印版同位型定位技術(shù)。
其探測(cè)器緊鄰燙印版，定位的圖案與燙印圖案一致，是鍛準(zhǔn)確的一種定位技術(shù)，特別適用于小塑平壓平燙印機(jī)。智能型定位技術(shù)，其探測(cè)器的位置雖與燙印版有一定距離，但使用了微處理器進(jìn)行控制，以保持對(duì)光標(biāo)間距的跟蹤，并拉動(dòng)燙印箔來改變圖案的位置，提高了定位的準(zhǔn)確性。這種定位方式對(duì)燙印箔的張力控制比較敏感。
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